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近日，中微公司的电容耦合等离子体（CCP）刻蚀设备第3000台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。这一重要里程碑标志着中微公司刻蚀设备的优异性能、机台稳定性和高效的量产能力已得到客户与市场的广泛认可。

自首台CCP刻蚀设备发布以来，中微公司不断拓展CCP刻蚀设备产品线，以满足先进的芯片器件制造日益严苛的技术需求。CCP刻蚀设备系列包括单反应台刻蚀设备Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE，双反应台刻蚀设备Primo D-RIE、Primo AD-RIE和刻蚀及除胶一体化的 Primo iDEA。这些产品为客户提供了全面综合的解决方案，用于65纳米至5纳米及以下工艺的多种应用。中微公司的刻蚀设备产品线还包括其他多款电感耦合低能等离子体（ICP）刻蚀设备和硅通孔（TSV）刻蚀设备。目前，中微公司累计已有超过700台ICP和TSV设备在国内外生产线实现量产。

凭借独特的技术创新和差异化设计，中微公司刻蚀设备不断扩大市场占有率，在国内外半导体前道设备行业占据优势地位。2023年，中微公司营业收入约62.64亿元，较2022年增加约15.24亿元，同比增长约32.15%。其中，2023年刻蚀设备销售约47.03亿元，同比增长约49.43%。

此前，占公司营业收入约75.1%的刻蚀设备在2021年和2022 年分别增长了55.4%和57.1%。公司2023年新增订单总金额约83.6亿元，较2022年的63.2亿元增加约20.4亿元，同比增长约32.3%，其中刻蚀设备新增订单达到69.5 亿元，同比增长约60.1%。

此外，中微公司综合竞争优势不断增强，各项营运指标已达到国际先进半导体设备企业水平。在过去的十年中，公司的营业收入一直以高于35%的年平均增长速度持续增长。

中微公司董事、集团副总裁、刻蚀和外延产品部总经理丛海谈及这一付运里程碑时表示，中微公司紧跟先进制程工艺发展的最前沿，在产品开发、设计和制造过程中，始终强调创新和差异化，也正是中微公司的领先技术及专业服务使我们的设备产品赢得了客户的青睐。

未来，中微公司也将持续贯彻中微公司“四个十大”的企业文化，深化实践“产品开发的十大原则”，不断为客户和市场提供性能卓越、高效节能的高端设备产品。

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